Array ThinFilm PECVD工艺PI考试-2022Q2

姓名
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工号
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  关于PI过程监控以下说法错误的是
出现异常PI结果需要及时加测
确认加测结果前无需进行不良调查
不良较严重是需要确认影响范围
明确不良来源后需要及时整改对应设备
发现Vent管方向PT聚集后,需要检查的单元是
HDC
Load Lock
TC
Port口
以下说法错误的是
存在大量假点的Glass没有看的必要
加测lot尽可能不skip
APM反馈PI异常需要在交班时进行汇报
加测lot测试结果必须进行记录
请从以下PI不良图片中选出由PECVD工艺以外工艺导致的 *
map图上出现三角符号说明存在 
Repeat不良,同样坐标多次出现
defect聚集
Aligh Mark
定点拍图
以下PI图片属于假点的是
若发现某Multi设备PI结果存在Vent管方向PT聚集,以下做法正确的是
检查对应设备LL
若对应设备LL无异常,检查相应FGI设备LL
检查对应设备HDC
开TC检查
以下情况中,需要加测PI的有 
设备复机首lot
宕机停留Glass
PT环状聚集同腔室Glass
FDC Pin头报警Glass
可能导致PT聚集的情况有 
腔室清洁能力不足
LL PT较多
Pump回压
人员进Index检查玻璃
造成以下PI不良的实际异常,位于Glass背面的有
Pin PT
Pin Mura
ESD
背面白斑
事务繁忙时Defect点少的PI结果可以不看 
设备月保复机后应该关注Mask AOI结果
圆弧Remain的成因与VR Pad相关 
灰阶异常可能与THK均一性相关
 PI设备属于APM科管理,PECVD无需关心PI检出能力是否达标
FGI PI检出能力不足时可以参考Multi PI结果
请填写以下图片对应的不良名称
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