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您目前是否涉及以下研究或实验需求？（多选）
高分辨率纳米尺度图案制备
低维材料，量子器件制备
灰度结构制备
器件于受保护氛围中的制备
表面结构调控
纳米尺度的原位改性
原子级制造需求
其他（请注明）
您目前是否使用以下技术？（多选）
光刻 （Photolithography）
电子束刻写 (EBL)
离子束刻写
其他（请注明）
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您是通过什么渠道了解到本次活动的？
同事推荐
学校 / 平台通知
网站 / 社交媒体
其他（请注明）
通过参加本次研讨会，您希望（多选）
了解新技术
寻找实验解决方案
对热扫描探针技术有具体应用兴趣
计划未来建设相关实验能力
其他（请注明）
您是否愿意后续 (多选)
进一步探讨热扫描探针技术在您研究中的应用
接受相关应用资料
提供样品进行测试
其他（请注明）