浦东新区集成电路产业知识产权保护与高质量发展情况调查问卷

尊敬的企业负责人：为全面掌握浦东新区集成电路产业知识产权保护现状，优化知识产权服务供给，上海隆天律师事务所受上海市浦东新区知识产权保护中心委托组织开展本次调研。恳请贵单位知识产权或法务岗位人员据实填答，预计用时12分钟。

特别说明：

（1）企业名称为选填项，可匿名填答；

（2）本问卷全部数据仅用于本次调研的统计分析，不用于其他任何目的，不向第三方提供；

（3）研究成果中对企业数据一律作汇总统计或匿名化处理，确需具名引用的将事先征得贵单位书面同意；

（4）涉及数量的题目均采用区间选项，无需提供精确数值。感谢您的支持！

第一部分　企业基本情况
1、企业名称（选填，可匿名填答）
* 2、主要经营场所所在区域（单选）
* 3、贵单位在集成电路产业链中的环节（可多选）
芯片设计（Fabless）
晶圆制造（Foundry／IDM）
封装测试
专用装备
关键材料
EDA工具
IP核授权
整机或系统应用方案
其他（请注明）
* 4、主要产品应用领域（可多选）
通信
计算与存储
云端AI训练与推理算力
端侧AI推理（AI手机／AIPC／智能眼镜／可穿戴）
智能汽车（座舱与辅助驾驶）
具身智能与机器人
工业控制
消费电子
物联网
功率器件
传感器
其他
* 5、员工总数（单选）
* 6、研发人员占员工总数比例（单选）
* 7-1、企业性质与资质——资本属性
* 7-2、企业性质与资质——上市情况
* 7-3、企业性质与资质——资质认定（可多选）
高新技术企业
专精特新（含"小巨人"）
知识产权示范或优势企业
均无
第二部分　知识产权资产与布局
* 8、截至填表之日，贵单位有效知识产权数量（各行单选一个区间）
0件
1—10件
11—50件
51—200件
200件以上
境内发明专利
境外发明专利
实用新型专利
外观设计专利
集成电路布图设计专有权
计算机软件著作权
注册商标（境内）
内部认定的商业秘密密点
* 9、已布局或计划布局的境外国家和地区（可多选）
美国
欧洲（含EPO或UPC成员国）
日本
韩国
中国台湾地区
新加坡
东南亚其他国家
通过PCT进入国家阶段
暂无境外布局
* 10、境外知识产权布局的主要驱动因素（可多选，无布局的可跳过本题）
产品出口或境外销售
客户或供应链合同要求
融资与上市需要
防御性布局与诉讼储备
许可与运营变现
政府政策引导或资助
* 11、贵单位是否申请过集成电路布图设计专有权登记（单选）
* 12、若未使用或很少使用布图设计专有权，主要原因（可多选）
不了解该制度
保护范围有限
保护期与产品生命周期不匹配
维权举证困难
已通过专利或商业秘密保护
登记需提交版图，担心泄密
其他
* 13、贵单位商业秘密保护的核心客体（可多选，最多选6项）
最多选择 6 项
工艺配方与参数（recipe）
电路设计源码（RTL）
版图数据（GDSII）
EDA脚本与流程
测试程序与测试向量
良率与失效分析数据
材料与设备参数
客户名单与报价
供应链与产能信息
未来产品路线图
算子库、编译器与工具链源码
模型权重、量化参数与训练配置
14、贵单位芯片产品中使用第三方IP核的情况（可多选。本题及后三题为分支题组：仅主要产品应用领域勾选"云端AI训练与推理算力""端侧AI推理""智能汽车""具身智能与机器人"任一项的企业填答，其余企业请跳过；不使用第三方IP核的请跳过下一题）
CPU或DSP架构授权
NPU或AI加速IP
模拟与射频IP
接口类IP（DD
R、PCIe、US
B、SerDes等）
存储编译器
不使用第三方IP核
15、第三方IP核许可管理中遇到的主要问题（可多选）
许可范围界定不清（工艺节点、出货量、衍生设计）
出货量申报与审计应对成本高
许可方主体变更或被收购导致条款变化
出口管制或清单措施导致许可中断风险
许可费与版税谈判缺乏市场参照
未遇到明显问题
16、贵单位软件工具链（编译器、算子库、SDK）中开源组件的合规管理情况（单选）
17、贵单位向客户交付或预置AI模型（含参考模型、量化模型）的，其知识产权归属如何约定（单选）
* 18、贵单位开展专利导航或自由实施FTO分析的情况（单选）
第三部分　知识产权管理机制
* 19、是否设有专职知识产权管理部门或岗位（单选）
* 20、知识产权专职人员数量（单选）
* 21、是否通过《企业知识产权管理规范》GB/T29490贯标认证（单选）
* 22、贵单位已建立并实际执行的知识产权制度（可多选）
* 23、知识产权工作嵌入研发流程的节点（可多选）
* 24、知识产权信息化系统使用情况（单选）
第四部分　风险、纠纷与维权
* 25、近三年是否发生知识产权纠纷（含收到警告函、被投诉、诉讼、仲裁）（单选。选"否"的请跳过纠纷相关各题，直接填答涉外风险感知题）
* 26、纠纷涉及的权利类型（可多选）
* 27、纠纷发生的地域或程序（可多选）
* 28-1、贵单位在纠纷中的角色（单选）
* 28-2、纠纷的结果（单选）
* 29、近三年是否收到境外专利运营实体NPE的警告函或被其起诉（单选）
* 30、是否经历过因核心研发人员流动导致的技术秘密流失或疑似流失（单选）
* 31、知识产权维权中最主要的困难（可多选，限选3项）
* 32、贵单位对下列涉外风险的感知程度（每行单选：1＝无影响，5＝影响很大）
第五部分　服务使用与需求
* 33、贵单位使用过下列哪些知识产权服务（可多选）
* 34、对已使用服务的总体满意度（单选，未使用过服务的可跳过）
* 35、贵单位最希望保护中心提供的服务（可多选，限选3项）
* 36、对建立集成电路行业知识产权保护协作机制（如产业联盟、专利池、维权互助）的意愿（单选）
* 37-1、贵单位是否愿意参加后续的实地走访或企业座谈会（单选）
37-2、愿意参加走访或座谈会的，请填写联系方式
第六部分　开放意见
38、您认为当前集成电路领域知识产权保护最突出的一个问题是什么？
39、您对浦东新区知识产权工作有哪些具体建议？
40-1、其他需要补充说明的情况
40-2、填表人（选填）